福建体彩Ⅱ选5开奖结果|合肥超声波清洗机厂家

黑龙江11选5前三组跨度走式图 www.koqlo.review,无论环境气候多么险恶，兰花都能获取生存所需要的养分和力量，并始终保持她的美丽，鲜活，和动人光彩。锅内留油，下葱段、芥蓝、牛肉、红椒翻炒、调入盐，淋入香油即可。

合肥超声波清洗机厂家 合肥超声波清洗机生产厂家

工艺流程

1、研磨后的清洗

研磨是光学玻璃生产中决定其加工效率和表面质量（外观和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物为研磨粉和沥青，少数企业的加工过程中会有漆片。其中研磨粉的型号各异，一般是以二氧化铈为主的碱金属氧化物。根据镜片的材质及研磨精度不同，选择不同型号的研磨粉。在研磨过程中使用的沥青是起保护作用的，以防止抛光完的镜面被划伤或腐蚀。研磨后的清洗设备大致分为两种： 一种主要使用有机溶剂清洗剂，另一种主要使用半水基清洗剂。

半水基清洗采用的清洗流程如下:

半水基清洗剂（超声波）-市水漂洗-水基清洗剂-市水漂洗-纯水漂洗-IPA脱水-IPA慢拉干燥

此种清洗工艺同溶剂清洗相比最大的区别在于，其前两个清洗单元：有机溶剂清洗只对沥青或漆片具有良好的清洗效果，但却无法清洗研磨粉等无机物；半水基清洗剂则不同，不但可以清洗沥青等有机污染物，还对研磨粉等无机物有良好的清洗效果，从而大大减轻了后续清洗单元中水基清洗剂的清洗压力。半水基清洗剂的特点是挥发速度很慢，气味小。采用半水基清洗剂清洗的设备在第一个清洗单元中无需密封冷凝和蒸馏回收装置。但由于半水基清洗剂粘度较大，并且对后续工序使用的水基清洗剂有乳化作用，所以第二个单元须市水漂洗，并且最好将其设为流水漂洗。

国内应用此种工艺的企业不多，其中一个原因是半水基清洗剂多为进口，价格比较昂贵。

从水基清洗单元开始，半水基清洗工艺同溶剂清洗工艺基本相同。

  http://yinchuanfenglinshi.zjfls.com/  http://www.jscyfsq.com  http://www.jsfenglinshi.com http://www.sdflscj.com

联系人 王翠翠 15266250057  qq 534433047